Quanta 400 FEG場發(fā)射掃描電鏡
設備資源
 Quanta 400 FEG場發(fā)射掃描電鏡
參數(shù):
技術指標
電子光學系統(tǒng)： Quanta 400 FEG的特點是電子光學鏡筒的光軸預先調(diào)整到達最高分辨率和穩(wěn)定電子束的最佳狀態(tài)。電子光學系統(tǒng)主要包含以下內(nèi)容： 電子源 肖特基場發(fā)射電子槍。電子槍部件調(diào)整到最佳狀態(tài)，高亮度大束流，提供無噪音成像。 加速電壓 200V ~ 30kV 束流 >100nA 分辨率 (用碳膜上的金顆粒來測試) 高真空：1.2nm@30kV (SE)；2.5nm@30kV (BSE)；3.0nm@1kV (SE) 低真空：1.5nm@30kV (SE)；2.5nm@30kV (BSE)；3.0nm@3kV (SE) 擴展的真空模式(ESEM)：1.5nm@30kV (SE) 焦距范圍 2.5 ~ 99 mm 放大倍率 12x (長工作距離) ~ >2,000,000x 在19"LCD顯示器上單一像限觀察 視野范圍 在高、低真空模式具有同樣的視野范圍 (最大工作距離17mm)
應用范圍
Quanta 400 FEG是一個場發(fā)射掃描電子顯微鏡，可以產(chǎn)生和收集任何樣品的信息。它是最通用型的高分辨低真空的場發(fā)射掃描電鏡，具有低真空性能可用于真正有挑戰(zhàn)性的樣品和動態(tài)實驗。這是第二代的Quanta